設備名稱

500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀-VTC-2DC

主要參數

輸入電源：220V AC 50Hz    

輸出電壓：600 VDC 

輸出功率：最大500W 

整機功率：1000W（包括真空泵）

濺射腔體

l采用石英腔體，尺寸：166 mm OD x 150 mm ID x 250 mm H（配置直靶頭）

                                 尺寸：166 mm OD x 150 mm ID x 290 mm H（配置帶角度傾斜靶頭） 

l密封法蘭:直徑為165 mm，采用金屬制作，密封采用O形密封圈

 濺射頭&樣品臺

l濺射頭安裝靶材直徑為2英寸，同時可選配1英寸濺射頭

1英寸靶頭	2英寸靶頭

l儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼樣品臺，其與濺射頭之間距離40-80mm可調 

l樣品臺可加熱，加熱溫度RT-500℃（RT為室溫） 

l安裝有一可手動操作的擋板 

l最大可制膜的直徑為:2英寸（標配2英寸，如果需要更大尺寸請與我們銷售聯系）

真空系統
 

l安裝有KF25真空接口 

l數字真空壓力表（Pa） 

l此系統運行需要Ar氣，并且氣瓶上安裝有減壓閥（設備中不包含） 

l采用機械泵< 3.8E-2 Torr(參考值）

l采用渦旋分子泵< 3.8E-5 Torr(參考值） 

l可在本公司選購各種真空泵

進氣

l設備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶 

l設備前面板上裝有一氣流調節旋鈕，方便調節氣流

靶材

l靶材尺寸要求：Φ50mm×(0.1-5)mm(厚度) 

l可在本公司選購各種靶材

薄膜測厚儀（可選）

可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上

產品外型尺寸

540 mm L x 540 mm W x 1100 mm H

凈重：70 kg（不包括泵）

質量認證

CE認證

質保

一年保修，終身技術支持。
特別提示：1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內。

2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內。 

使用提示

l有時為了達到理想的薄膜厚度，可能需要多次濺射鍍膜 

l為了得到較好的薄膜質量，必須通入高純氣體（建議> 5N） 

l在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈 

l要達到薄膜與基底良好結合，請在濺射前清潔基材表面 

l超聲波清洗（詳細參數點擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮氣干燥（4）真空烘箱除去水分。 

l等離子清洗：可表面粗糙化，可激活表面化學鍵，可祛除額外的污染物。 

l制造一個薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應用于改善金屬和合金的附著力。

超聲波清洗機	等離子清洗機	          蒸鍍儀	         手套箱

警告

l注意：產品內部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動機體。 

l氣瓶上應安裝減壓閥（設備標配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕 以下，以安全使用。 

l濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關閉設備前裝樣和更換靶