1英寸100W射頻磁控濺射鍍膜儀VTC-1RF合肥科晶產品簡介:
VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型),配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設備主要用于制作非導電薄膜,特別是一些氧化物薄膜。對于新型非導電薄膜的探索,它是一款廉價并且高效的實驗幫手。
1英寸100W射頻磁控濺射鍍膜儀VTC-1RF合肥科晶產品技術參數:
我們用此設備得到擇優取向的ZnO薄膜
設備名稱
|
1英寸100W射頻磁控濺射鍍膜儀VTC-1RF
|
主要參數
|
輸入電源:220V AC 50/60Hz
最高使用功率:100W
靶頭數量:單個1英寸磁控濺射靶
設備功率:800W(包括真空泵)
樣品臺加熱溫度:500℃
|
濺射腔體
|
l采用石英腔體,尺寸:166 mm OD x 150 mm ID x 250 mm H
l密封法蘭:直徑為165 mm,采用金屬制作,密封采用O形密封圈
|
射頻電源
|
設備有兩種射頻電源可選分別為:(圖一、二)
l300W自動匹配射頻電源
l100W的手動匹配射頻電源
注意:
l1英寸靶頭最大使用功率為100W
l自動射頻電源的最大功率為300W,但是受靶頭限制,最大功率只能使用100W
|
濺射頭&樣品臺
|
l一個1英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層),采用快速接頭與真空腔體相連接(圖一)
l儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼可旋轉樣品臺,其與濺射頭之間距離30-80mm可調
l濺射頭角度可調
l樣品臺可加熱,加熱溫度室溫-500℃
l安裝有一可手動操作的擋板
l最大可制膜的直徑為:4英寸
l可以單獨訂購RF連接線作為備用(圖四)
l設備包含一臺水冷機,用于靶頭冷卻(圖五)
|
真空系統
(選配)
|
l安裝有KF25真空接口
l數字真空壓力表(Pa)
l此系統運行可通入氣體運行
l采用機械泵<1.0E-2 Torr
l采用渦旋分子泵<1.0E-5 Torr
l可在本公司選購各種真空泵
|
進氣
|
l設備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶
l設備前面板上裝有一氣流調節旋鈕,方便調節氣流
|
靶材
|
l靶材尺寸要求:Φ50mm ×(0.1-3)mm(厚度)
l可在本公司選購各種靶材
|
薄膜測厚儀(選配)
|
可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上
|
產品外型尺寸
|
540 mm L x 540 mm W x 1100 mm H
凈重:70 kg(不包括泵)
|
質量認證
|
CE認證
|
質保
|
一年保修,終身技術支持。
特別提示:1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內。
2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內。
|
使用提示
|
l此設備有多種DIY方案可供選擇,具體請聯系銷售部
l為了保證濺射效果,非導電靶材必須安裝銅墊塊
l可在本公司購買單晶基片從A到Z
l本公司濺射鍍膜機在500℃已經成功將ZnO濺射在Al2O3襯底上
l有時為了達到理想的薄膜厚度,可能需要多次濺射鍍膜
l為了得到較好的薄膜質量,必須通入高純氣體(建議> 5N)
l在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈
l要達到薄膜與基底良好結合,請在濺射前清潔基材表面
l超聲波清洗(詳細參數點擊下面圖片):(1)丙酮超聲(2)異丙醇超聲-去除油脂(3)吹氮氣干燥(4)真空烘箱除去水分。
l等離子清洗:可表面粗糙化,可激活表面化學鍵,可祛除額外的污染物。
l制造一個薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應用于改善金屬和合金的附著力。
|
|
|
|
|
超聲波清洗機 |
等離子清洗機 |
蒸鍍儀 |
手套箱 |
|
|
警示
|
l注意:產品內部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動機體。
l氣瓶上應安裝減壓閥(設備不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。
l濺射頭連接到高電壓。為了安全,操作者必須在關閉設備后才能進行裝樣和更換靶頭等操作。
|