三靶射頻磁控濺射鍍膜儀VTC-3RF合肥科晶產品簡介:
VTC-3RF三靶射頻磁控濺射鍍膜儀,配有磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設備主要用于制作非導電薄膜,特別是一些氧化物薄膜。對于新型非導電薄膜的探索,它是一款廉價并且高效的實驗幫手。
三靶射頻磁控濺射鍍膜儀VTC-3RF合肥科晶產品技術參數:
設備名稱 |
三靶射頻磁控濺射鍍膜儀--VTC-3RF |
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產品提示 |
1、多種配件可選提示 2、特殊設備尺寸設備 3、科晶實驗室邀請提示 4、配件妥善保管提示 |
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主要特點 |
·標配的石英腔體(也可選配金屬腔體)方便觀察(圖1) ·相比傳統濺射儀,體積小巧,拆裝方便(圖2) ·模塊化設計,靶頭,電源等多種可選,自由DIY(圖3) ·基臺可旋轉可加熱 ·可濺射金屬和氧化物。實驗室已初步制備了 氧化鋅、碲化鉍、ITO、ATO、AU、Ag、Cu、Al、Mg、Sc等薄膜。
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基本參數 |
1、輸入電源:220V AC50/60Hz 2、設備功率:<1500W 3、靶臺加熱溫度:500℃ 4、樣品臺轉速:0-10r/min 5、靶頭可調傾角:0-25度 6、濺射腔體尺寸:278mm OD x 272mm ID x310mm H。 7、靶材尺寸要求:1英寸磁控濺射靶頭Φ25.4mm ×(0.1-3)mm(厚度) 2英寸磁控濺射靶頭Φ50mm ×(0.1-3)mm(厚度) 8、最高使用功率:1英寸磁控濺射靶頭100W 2英寸磁控濺射靶頭300W
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機體結構 |
·設備配備三個直流射頻通用靶頭,1英寸2英寸尺寸可選。 ·儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼可旋轉樣品臺,最高加熱溫度是500℃(圖1) ·配有300W自動匹配射頻電源和500W的直流濺射電源(可自由選擇)(圖2) ·設備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶(圖3) ·配有靶頭電動升降臺(圖4) ·配有高純石英密封罩(圖5)
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配置可選 |
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產品外形尺寸 |
·700mm L x 770 mm W x 1900 mm H ·凈重:80 kg(不包括泵)
備注:此產品尺寸為參考值,可能存在一定的誤差。如果您對尺寸有精確的要求,請在購買前和我公司聯系確認,以免給您造成不便。
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實驗室參考案例 |
以下數據僅針對合肥科晶設備,不具有普遍性。
實驗案例照片
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相關視頻 |
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應用技術提示
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1、為了保證濺射效果,非導電靶材必須安裝銅墊塊 2、有時為了達到理想的薄膜厚度,可能需要多次濺射鍍膜 3、為了得到較好的薄膜質量,必須通入高純氣體(建議> 5N) 4、在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈 5、要達到薄膜與基底良好結合,請在濺射前清潔基材表面 6、在分子泵出口安裝有一個可手動操作的擋板 超聲波清洗:(1)丙酮超聲(2)異丙醇超聲-去除油脂(3)吹氮氣干燥(4)真空烘箱除去水分。 等離子清洗:可表面粗糙化,可激活表面化學鍵,可祛除額外的污染物。 制造一個薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應用于改善金屬和合金的附著力。
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警 示 |
注意:產品內部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動機體。 1、1英寸靶頭最大使用功率為100W 2、2英寸靶頭最大使用功率為300W 3、氣瓶上應安裝減壓閥(設備不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。 4、濺射頭連接到高電壓。為了安全,操作者必須在關閉設備后才能進行裝樣和更換靶頭等操作。 5、請勿在易燃易爆氣體環境下使用該設備 6、請勿在潮濕的環境下使用該設備 7、機體上禁止放置茶杯等裝有液體的器物 8、禁止儀器通電狀態下去拔插電源插頭 |
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質量認證 |
CE認證 |
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質保 |
一年保修,終身技術支持。 1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內。
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