設備名稱

5靶頭等離子射頻磁控濺射儀--VTC-5RF

主要特點

l多種濺射靶頭及電源可選，自由組合，具體請致電我公司銷售部。 

l根據所使用的電源（DC或RF），可以沉積金屬或非金屬材料。 

l一個旋轉開關可以依次激活濺射頭，可在真空或等離子體環境中自動切換，不影響真空度。 

l可以安裝五種不同材料的靶材，每個靶頭可單獨設置濺射時間功率等參數，用于生長不同成分的薄膜。 

l可選購多個射頻電源，同一時間濺射多個靶材。 

l可選配設備控制軟件，用電腦控制濺射的所有參數。

濺射腔體

l真空腔體采用304不銹鋼制作 

l腔體內部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H  (105 L) 

l鉸鏈式腔門，直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃窗口

濺射頭&樣品臺

l5個1英寸的磁控濺射頭，帶有水冷夾層（圖一） 

l濺射腔體內安裝有電動擋板 

l濺射距離: 50–80 mm 

l濺射角度: 0–25°（可調） 

l實驗時，需要將靶材和靶材的銅墊片用導電銀漿粘合粘合，（可在本公司購買導電銀漿） 

l可以單獨訂購RF連接線作為備用（圖二） 

l設備需要一臺水冷機，用于靶頭冷卻（圖三） 

l原理圖請參考（圖四）

圖一	圖二	圖三

樣品臺

l直徑為150mm的樣品臺，上面覆蓋一旋轉臺，帶有10mm的孔洞，每次露出一個樣品接收濺射成膜。 

l樣品臺尺寸：Φ150mm,可通過程序控制來旋轉，可制作16種不同組分的薄膜 

l樣品臺可以加熱，最高溫度可達600℃（根據配置不同可能會有變動）

真空系統
 

l安裝有KF40真空接口 

l真空度：4.0e-5Torr(分子泵） 

l可在本公司選購各種真空泵

進氣

l設備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶 

l設備前面板上裝有一氣流調節旋鈕，方便調節氣流

靶材

l所要求靶材尺寸：直徑為25mm,最大厚度3mm 

l可在本公司選購各種靶材

薄膜測厚儀（可選）

可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上

凈重

60Kg（不包括泵）

質量認證

CE認證

質保

一年保修，終身技術支持。
特別提示：1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內。

2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內。

使用提示

l此設備為DIY設備，參數變化較大購買前請務必電話仔細溝通 

l為了得到較好的薄膜質量，必須通入高純氣體（建議> 5N） 

l在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈 

l要達到薄膜與基底良好結合，請在濺射前清潔基材表面 

l超聲波清洗：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮氣干燥（4）真空烘箱除去水分。 

l等離子清洗：可表面粗糙化，可激活表面化學鍵，可祛除額外的污染物。 

l制造一個薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應用于改善金屬和合金的附著力。

超聲波清洗機	等離子清洗機	蒸鍍儀	手套箱

警告

l注意：產品內部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動機體。 

l氣瓶上應安裝減壓閥（設備標配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。 

l濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關閉設備前裝樣和更換靶